Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to a method for manufacturing a graphene film and a pattern thereof which can form a large-area, high performance graphene film and a pattern at low cost, and apply the film and the pattern on an electronic device by separately printing with graphene oxide ink and reducing agent ink at the same point and inducing a chemical reaction on a substrate to make a high performance graphene and a pattern simultaneously.
French[fr]
La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un film de graphène et d'un motif associé, qui peut former un film de graphène de grande superficie et de performance élevée et un motif à faible coût, et qui applique le film et le motif sur un dispositif électronique par impression séparée avec une encre à base d'oxyde de graphène et une encre à base d'agent réducteur au même endroit et d'induction d'une réaction chimique sur un substrat pour obtenir simultanément un graphène de performance élevée et un motif.
Korean[ko]
본 발명은 그라핀 산화물(graphene oxide) 잉크(ink)와 환원제(reducing agent) 잉크를 개별적으로 같은 지점에 인쇄하여 기판상에서 화학반응을 유도함으로써 고성능 그라핀의 제조와 패턴이 동시에 이루어지도록 함으로써, 저비용으로 신속하게 대면적 고성능 그라핀 필름 및 패턴을 형성할 수 있고, 이를 전자소자에 응용할 수 있도록 하기 위한 그라핀 필름 및 패턴 제조 방법에 관한 것이다.