Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention comprises: a first mask (2) forming a plurality of first open patterns (4) having the same shape dimensions as a thin-film pattern formed upon a substrate; and a second mask (3) forming a second open pattern (10) being of a size that encompasses at least one of the plurality of first open patterns (4), and arranged overlapping the first mask (2) so as to not bind to the first mask (2).
French[fr]
La présente invention concerne : un premier masque (2) formant plusieurs premiers motifs ouverts (4) ayant les mêmes formes et dimensions en qualité de motif de film fin formé sur un substrat ; et un second masque (3) formant un second motif ouvert (10) d'une taille englobant au moins lesdits plusieurs premiers motifs ouverts (4), et disposé de manière à chevaucher le premier masque (2) et ne pas se coller u premier masque (2).
Japanese[ja]
本発明は、基板上に成膜される薄膜パターンと形状寸法の同じ複数の第1の開口パターン4を形成した第1のマスク2と、前記複数の第1の開口パターン4のうち少なくとも一つを内包する大きさの第2の開口パターン10を形成し、前記第1のマスク2上に、該第1のマスク2に対して非拘束状態となるように重ねて設置される第2のマスク3と、を備えて構成したものである。