Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Interferometric apparatus and methods by which the local surface characteristics of photolithographic mirrors (260, 270) or the like may be interferometrically measured in-situ to provide correction signals for enhanced distance and angular measurement accuracy.
French[fr]
L'invention concerne un appareil interférométrique et des procédés qui permettent de mesurer les caractéristiques de surface locale sur des miroirs photolithographiques (260, 270) ou autres, in situ, de manière à fournir des signaux de correction pour améliorer la précision de mesure en termes de distance et d'angle.