Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Disclosed is a radiation-sensitive composition capable of forming a chemically amplified positive resist film, which is effectively sensitive to (extreme) far ultraviolet rays such as KrF excimer lasers, ArF excimer lasers, and EUV, X-rays such as synchrotron radiation, and electron beams, and has excellent nano edge roughness, high sensitivity, and high resolution, and on which a fine pattern can be stably formed with high precision.
French[fr]
La présente invention a pour objet une composition sensible aux rayonnements capable de former un film de résist positif amplifié chimiquement, qui est efficacement sensible aux rayons ultraviolets lointains (extrêmes) tels que les lasers à excimères KrF, les lasers à excimères ArF, et les EUV (rayons ultraviolets extrêmes), aux rayons X tels que le rayonnement synchrotron, et aux faisceaux électroniques, et possède une excellente nanorugosité de bord, une sensibilité élevée, et une résolution élevée, et sur laquelle un motif fin peut être formé de manière stable avec une grande précision.
Japanese[ja]
本発明の目的は、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、EUV等の(極)遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物等を提供することである。