Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Vacuum-UV-region exposure light (IL) from an exposure light source (1) illuminates a reticle (R) to transfer the reticle's pattern image onto a wafer (W) via a projection optical system (PL).
French[fr]
Une lumière d'exposition d'une région d'ultraviolet extrême (IL) provenant d'une source de lumière d'exposition (1) éclaire une réticule (R) afin de transférer l'image de forme de la réticule sur une tranche (W) par le biais d'un système optique de projection (PL).