Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Disclosed is a method for manufacturing a semiconductor device having a minute pattern smaller than the smallest pattern that is formable by means of a photolithography process.
French[fr]
L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif à semi-conducteurs ayant un motif minuscule, plus petit que le plus petit motif pouvant être formé au moyen d'un traitement par photolithographie.
Korean[ko]
이러한 반도체소자 제조방법은, 기판에 실리콘층을 형성하는 단계와, 실리콘층 상부에 포토레지스트막을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트막을 노광하는 단계와, 노광된 상기 포토레지스트막을 현상하는 단계와, 현상된 상기 포토레지스트막을 마스크로 이용하여 상기 실리콘층에 패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트막을 제거하는 단계와, 절연막을 형성하는 단계, 및 상기 실리콘 기판에 형성된 패턴을 트리밍하는 단계를 포함한다.