Metadata
Author: cordis
Data
German[de]
Währen des NANOMASS-II-Projekts wurden verschiedene Lithografieprozesse im Nanobereich miteinander verglichen, um ihre Vorteile im Hinblick auf Dimensionsreduzierung, Durchsatz und vor allem ihre Kompatibilität mit standardmäßiger CMOS-Technologie zu bewerten.
English[en]
During the course of the NANOMASS-II project, different nanolithography processes were compared to evaluate their advantages in terms of dimensions reduction, throughput and importantly, their compatibility with standard CMOS technology.
Spanish[es]
En el transcurso del proyecto NANOMASS-II se compararon distintos procesos de nanolitografía a fin de evaluar sus ventajas en cuanto a reducción de las dimensiones, rendimiento y, lo que también es importante, su compatibilidad con la tecnología de CMOS estándar.
French[fr]
Durant le projet NANOMASS-II, différents processus de nanolithographie ont été comparés pour évaluer leur avantages en termes de réduction de dimensions, de rendement et, chose importante, de compatibilité avec la technologie CMOS standard.
Italian[it]
Durante lo sviluppo del progetto NANOMASS-II, sono stati confrontati diversi processi di nanolitografia per valutarne i vantaggi in termini di riduzione delle dimensioni, produttività e soprattutto compatibilità con la tecnologia CMOS standard.
Polish[pl]
W trakcie projektu NANOMASS-II porównano różne procesy nanolitograficzne, aby ocenić ich zalety w postaci zmniejszenia wymiarów, wzrostu wydajności oraz, co ważne, zgodności ze standardową technologią CMOS.