Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
When the glass substrate is removed from the polishing pad, said removal is performed with the glass substrate in a state in contact with the liquid which has 0.5-10w% abrasive grain concentration.
French[fr]
Lorsque le substrat en verre est retiré du tampon de polissage, ledit retrait est effectué avec le substrat en verre dans un état en contact avec le liquide qui possède une concentration de grains abrasifs de 0,5-10w%.
Japanese[ja]
ガラス素板の表面に圧縮応力層を形成する工程(S70)と、研磨パッドを含む研磨機を準備し、圧縮応力層が形成されたガラス素板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給しつつ、圧縮応力層が形成されたガラス素板の表面に対して研磨パッドを用いて精密研磨を行なう工程(S80)と、研磨パッドからガラス素板を取り外した後、ガラス素板の表面に洗浄液を供給しつつ、圧縮応力層が形成されたガラス素板の表面に対してスクラブ洗浄を行なう工程(S90)と、を備え、研磨パッドからガラス素板を取り外す際、ガラス素板は、研磨砥粒の濃度が0.5w%以上10w%以下の液体と接触した状態で研磨パッドから取り外される。