Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The purpose of the present invention is to provide a microwave excitation plasma processing device that can produce, under intermediate pressure and high pressure, a plasma jet that is highly uniform, highly dense, low in temperature, and wide.
French[fr]
La présente invention a pour objet de réaliser un dispositif de traitement à plasma d'excitation à micro-ondes qui peut produire, sous une pression intermédiaire et une haute pression, un jet de plasma qui présente une grande uniformité, une forte densité, une basse température et qui est large.
Japanese[ja]
中間気圧及び高気圧においても高い一様性と高密度、かつ低温の広幅のプラズマジェットを発生することが可能なマイクロ波励起プラズマ処理装置を提供することを課題とするものであり、該マイクロ波プラズマ処理装置は、誘電体基板と、前記誘電体基板の一方の端部に設けられた該誘電体基板の厚みが徐々に小さくなる形状のテーパー部と、マイクロストリップ線路と、アース導体と、マイクロ波入力部と、前記誘電体基板内にガスを入力するためのガス入力口と、プラズマ発生部と、前記プラズマ発生部に一様な流速を持つ広幅のガス流を供給するために前記誘電体基板内部に設けられた、ガス流が進行するに従ってガス流幅が広くなるように形成されたガス流広幅化部と、ガスを前記ガス流広幅化部に供給するためのガス流路と、プラズマを吹き出させるためのノズルと、を備えることを特徴とする。