Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The apparatus comprises a passage (10) for gas flow; a hydrophilic carrier (12) permeable for gas flow, at least part of which is positioned within said passage for gas flow, and configured for containing a reagent that contacts the gas in said passage for gas flow; a unit (14) for disposing liquid to said carrier; and a controller (16), associated with said unit for disposing liquid, configured for controlling the unit for disposing to dispose an aqueous solution of dissolved reagent to the carrier; and after that controlling the unit for disposing to dispose liquid in case the humidity of the gas is below a first humidity threshold, or to stop disposing liquid in case the humidity of the gas is above a second humidity threshold.
French[fr]
L'appareil comprend un passage (10) pour l'écoulement de gaz; un support hydrophile (12) perméable à l'écoulement de gaz, dont au moins une partie est placée à l'intérieur dudit passage pour l'écoulement de gaz, et étant conçu pour contenir un réactif qui entre en contact avec le gaz dans ledit passage pour l'écoulement de gaz; une unité (14) permettant de déposer un liquide sur ledit support; et une commande (16), associée à ladite unité de dépose de liquide, et configurée pour commander à l'unité de déposer une solution aqueuse de réactif dissout sur le support; et pour ensuite commander à l'unité de déposer du liquide si l'humidité du gaz est en dessous d'un premier seuil d'humidité, ou d'arrêter de déposer du liquide si l'humidité du gaz est au-dessus d'un second seuil d'humidité.