Metadata
Author: WikiMatrix
Data
English[en]
The process can easily be used to etch completely through a silicon substrate, and etch rates are 3–6 times higher than wet etching.
Spanish[es]
El proceso puede ser utilizado fácilmente para grabar completamente a través de un sustrato de silicio, y las tasas de grabado son 3-4 veces más altas que el grabado mojado.