Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Method for oxidation of a silicon substrate under ultrahigh vacuum base conditions, wherein the substrate undergoes a number of oxidation cycles with exposure to oxygen and heat treatment for converting the adsorbed oxygen into silicon oxide.
French[fr]
Procédé servant à oxyder un substrat de silicium dans des conditions de base sous vide extrêmement élevées, ce qui consiste à soumettre le substrat à plusieurs cycles d'oxydation par exposition à de l'oxygène, ainsi qu'à un traitement thermique afin de convertir l'oxygène adsorbé en oxyde de silicium.