Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
A process for producing an electrically insulating and protective layer of aluminum oxide on semiconductive, insulating, metallic and superconductive substrates is disclosed, which comprises forming an epitaxial or polycrystalline film of aluminum arsenide on the surface of the substrate, e.g. a gallium arsenide substrate, and exposing the aluminum arsenide coated substrate, e.g. gallium arsenide, to water vapor, e.g. the ambient atmosphere containing water vapor, at a sufficient water vapor pressure and for a period of time sufficient to substantially completely convert the aluminum arsenide to aluminum oxide.
French[fr]
Un procédé de production d'une couche électro-isolante et électro-protectrice d'oxyde d'aluminium sur des substrats semiconducteurs isolants métalliques et supraconducteurs consiste à former un film épitaxial ou polycristallin d'arséniure d'aluminium sur la surface du substrat, par exemple un substrat en arséniure de gallium, et à exposer le substrat revêtu d'arséniure d'aluminium, par exemple, d'arséniure de gallium, à de la vapeur d'eau, par exemple l'atmosphère ambiante contenant de la vapeur d'eau, à une pression de vapeur d'eau et pendant une durée suffisantes pour transformer complètement l'arséniure d'aluminium en oxyde d'aluminium.