Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to a texture etchant composition for a crystalline silicon wafer and a texture etching method thereof, and more specifically to a texture etchant composition for a crystalline silicon wafer, which is capable of maximizing the absorbed amount of sunlight by including the optimal amount of alkali compounds, cyclic compounds, polysaccharides and residual water, improving texture uniformity according to a position on the surface of the crystalline silicon wafer, improving optical efficiency by reducing light reflectivity, and increasing the number of processed wafers according to the amount used per unit, and a texture etching method thereof.
French[fr]
La présente invention concerne une composition de gravure de texture pour une tranche de silicium cristallin et un procédé de gravure de texture de celle-ci, et, plus spécifiquement, une composition de gravure de texture pour une tranche de silicium cristallin, qui est apte à rendre maximimale la quantité absorbée de lumière du soleil par le fait qu'elle comprend la quantité optimale de composés alcalins, de composés cycliques, de polysaccharides et d'eau résiduelle, permettant ainsi d'améliorer l'uniformité de texture selon une position sur la surface de la tranche de silicium cristallin, d'améliorer le rendement optique par réduction de la réflectivité de la lumière, et d'augmenter le nombre de tranches traitées selon la quantité utilisée par unité.
Korean[ko]
본 발명은 결정성 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐 에칭액 조성물 및 텍스쳐 에칭방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 알칼리 화합물; 고리형 화합물; 다당류; 및 잔량의 물을 최적의 함량으로 포함함으로써 결정성 실리콘 웨이퍼 표면의 위치별 텍스쳐의 균일성을 향상시켜 태양광의 흡수량을 극대화시키고 광 반사율을 낮춰 광효율을 높일 수 있고 단위 사용량에 대한 처리 매수를 증가시킬 수 있는 결정성 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐 에칭액 조성물 및 텍스쳐 에칭방법에 관한 것이다.