Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Provided are a CVD device capable of dramatically improving the quality and productivity of a susceptor on which a coating such as SiC or TaC is formed without causing an increase in production cost or device size; a method for manufacturing a susceptor in which the CVD device is used; and a susceptor.
French[fr]
L'invention concerne un dispositif de CVD apte à améliorer de manière considérable la qualité et la productivité d'un suscepteur sur lequel un revêtement tel que SiC ou TaC est formé sans provoquer une augmentation en coût de production ou dimension de dispositif ; un procédé de fabrication d'un suscepteur dans lequel le dispositif de CVD est utilisé ; et un suscepteur.
Japanese[ja]
生産コストの高騰や、装置の大型化を招来することなく、SiCやTaCなどの被膜が形成されたサセプターの品質や生産性を飛躍的に向上させることができるCVD装置、該CVD装置を用いたサセプターの製造方法、及びサセプターを提供する。