Metadata
Author: patents-wipo
Data
German[de]
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan durch Umsetzung von metallurgischem Silicium und HCl in einem Wirbelschichtreaktor bei einer Temperatur von 290°C bis 400°C, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass eine hochsiedende Verbindung in den Wirbelschichtreaktor eingespeist wird.
English[en]
The invention relates to a process for preparing trichlorosilane by reacting metallurgic silicon and HCl in a fluid-bed reactor at a temperature of 290°C to 400°C, the process being characterized in that a high-boiling compound is fed to the fluid-bed reactor.
French[fr]
L'invention concerne un procédé de fabrication de trichlorosilane par réaction de silicium métallurgique et de HCl dans un réacteur à lit fluidisé à une température comprise entre 290 °C et 400 °C, caractérisé en ce qu'un composé à point d'ébullition élevé est introduit dans le réacteur à lit fluidisé.