Metadata
Author: patents-wipo
Data
German[de]
Verfahren zur selektiven entspiegelung einer halbleitergrenzfläche durch eine besondere prozessführung
English[en]
Method for the selective antireflection coating of a semiconductor interface by a particular process implementation
French[fr]
Procédé de traitement antireflet sélectif d'une surface limitrophe semi-conductrice par réalisation particulière du traitement