Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to a method for forming a flattened film comprising a UV curable organosiloxane resin, and a flattened film formed thereby.
French[fr]
La présente invention concerne un procédé de formation d'un film aplati comportant une résine d'organosiloxane durcissable par UV, ainsi qu'un film aplati ainsi formé.
Korean[ko]
본 발명은 자외선 경화형 유기실록산 수지를 포함한 평탄화막의 형성방법 및 이로부터 형성된 평탄화막에 관한 것으로, 본 발명에 따른 평탄화막의 형성방법은 게이트가 형성된 기판 상에 자외선 경화형 유기실록산 수지층을 형성하는 단계; 상기 기판면의 하부방향으로 자외선을 조사하여, 경화 유기실록산 수지층을 형성하되, 게이트 상부에는 자외선에 노출되지 않게 하여 경화되지 않은 유기실록산 수지층이 남도록 하는 단계; 현상액으로 경화되지 않는 유기실록산 수지층을 제거하는 단계; 및 현상액으로 경화된 유기실록산 수지층을 식각하는 단계를 포함한다.