Besonderhede van voorbeeld: 7986861870285831427

Metadata

Author: patents-wipo

Data

English[en]
In addition, another purpose of the present invention is to provide an alloy target for sputtering, manufactured by using the crystalline alloy, and a method for manufacturing same.
French[fr]
En outre, l'autre but de la présente invention est de proposer une cible d'alliage pour la pulvérisation, fabriquée au moyen de l'alliage cristallin, et son procédé de fabrication.
Korean[ko]
본 발명은 비정질 형성능을 가지면서도 열적 안정성이 비정질에 비해 현저하게 우수한 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금 및 그 제조방법의 제공을 목적으로 한다. 또한 본 발명은 상기 결정질 합금을 이용하여 제조한 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법의 제공을 또 다른 목적으로 한다.

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