Metadata
Author: WikiMatrix
Data
English[en]
In combination with wet anisotropic etching as described above, ECE has been used successfully for controlling silicon diaphragm thickness in commercial piezoresistive silicon pressure sensors.
Spanish[es]
En combinación con el grabado mojado anisotrópico como se ha descrito anteriormente, el ECE se ha utilizado con éxito para el control del espesor del diafragma de silicio en sensores de presión piezo-resistivos de silicio.