Metadata
Author: EurLex-2
Data
Danish[da]
Formål: Udvikling af refleksionsmasker til EUV-litografi med en bølgelængde på 13 nm
German[de]
Zielsetzung: Entwicklung von Reflexionsmasken für die Ultraviolettlithographie (EUV) bei Wellenlängen von 13 nm
Greek[el]
Στόχος: Ανάπτυξη μασκών ανάκλασης για λιθογραφία EUV μήκους κύματος 13 nm
English[en]
Objective: Development of face shields for EUV lithography with a wavelength of 13 nm
Spanish[es]
Objetivo: Desarrollo de máscaras de reflexión para la litografía EUV de 13 nm de longitudes de onda/Subvenciones
Finnish[fi]
Tarkoitus: Heijastavien maskien kehittäminen 13 nm:n aallonpituuden EUV-litografiaa (extreme ultraviolet) varten
French[fr]
Objectif: Développement de masques en réflexion pour la lithographie EUV à des longueurs d'onde de 13 nm
Italian[it]
Obiettivo: Sviluppo di maschere a riflessione per la litografia EUV a lunghezze d'onda di 13 nm
Dutch[nl]
Doelstelling: Het ontwikkelen van maskers voor EUV-lithografie met een golflengte van 13 nm
Portuguese[pt]
Objectivo: Desenvolvimento de máscaras com reflexões para a litografia EUV de 13 nm
Swedish[sv]
Syfte: Utveckling av reflexionsmasker till EUV-litografi med 13 nm våglängd