Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The selective plasma nitriding is performed by setting a treatment pressure in the range of 66.7 Pa to 667 Pa and supplying 0.1 W/cm2 to 1.2 W/cm2 of high-frequency power per unit area of the object to be treated from a high-frequency power source (44) to the electrode (42) of a carrying table (2).
French[fr]
La nitruration sélective par plasma est effectuée en établissant une pression de traitement située dans la plage de 66,7 Pa à 667 Pa et en fournissant entre 0,1 W/cm2 et 1,2 W/cm2 de puissance à haute fréquence par unité d'aire de l'objet à traiter, d'une source (44) de puissance à haute fréquence à l'électrode (42) d'une table porteuse (2).
Japanese[ja]
7Pa以上667Pa以下の範囲内に設定し、載置台2の電極42に高周波電源44から被処理体の面積当り0. 1W/cm2以上1.