Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Disclosed are a metal film etchant liquid composition including a copper used for a semiconductor device, and an etching method using same.
French[fr]
L'invention concerne une composition liquide de gravure d'un film métallique contenant du cuivre utilisé pour un dispositif semi-conducteur, et un procédé de gravure utilisant ladite composition.
Korean[ko]
반도체 장치에 사용되는 구리를 포함한 금속막 식각액 조성물 및 이를 사용한 식각 방법을 개시한다. 본 발명의 금속막 식각액 조성물은 불화붕소산 또는 불화붕소산과 적어도 한 종류의 함불소 화합물을 포함한다.