Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The method includes providing a semiconductor substrate. The method also includes forming a crystalline material characterized by a plurality of worm hole structures therein overlying the semiconductor substrate.
French[fr]
Le procédé consiste à utiliser un substrat semi-conducteur et à former une matière cristalline caractérisée par une pluralité de structures à orifices vermiculaires recouvrant le substrat à semi-conducteurs.