Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to a process chamber and to a substrate processing method.
French[fr]
La présente invention concerne une chambre de traitement et un procédé de traitement de substrat.
Korean[ko]
본 발명은 프로세스 챔버 및 기판 처리 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 실시 형태인 프로세스 챔버는 복수의 기판이 상하로 이격 적층되는 보트와, 내부 공간인 제1내부 공간을 가지는 하층 챔버 하우징과, 상기 하층 챔버 하우징의 상층에 위치하여 내부 공간인 제2내부 공간을 가지는 상층 챔버 하우징과, 상기 상층 챔버 하우징의 벽체에서 상기 보트의 이격 적층된 기판 사이로 서로 다른 공정가스를 개별적으로 수평 분사하는 공정가스 분사 수단과, 상기 상층 챔버 하우징의 내부 공간의 가스를 외부로 배출하는 공정가스 배출 수단과, 상기 보트를 상기 하층 챔버 하우징의 제1내부공간에서 상층 챔버 하우징의 제2내부공간으로 승하강시키며, 보트를 회전시키는 보트 구동 수단과, 상기 하층 챔버 하우징의 일측벽에 관통된 기판 이송 게이트를 포함한다.