Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
A radiation spot measurement system for a lithographic apparatus, the system having a target (40) onto which a radiation system of the lithographic apparatus may project spots of radiation for a measurement process, the target having a measurement target (42).
French[fr]
L'invention porte sur un système de mesure de point de rayonnement destiné à un appareil lithographique ; ledit système comprend une cible (40) sur laquelle un système de rayonnement de l'appareil lithographique peut projeter des points de rayonnement pour un processus de mesure, la cible comprenant une cible de mesure (42).