Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Provided are a method for fabricating a porous carbon structure using optical interference lithography, and a porous carbon structure fabricated by same, wherein the method for fabricating a porous carbon structure using optical light interference lithography includes: forming a photoresist layer on a substrate; irradiating a three-dimensional optical interference pattern onto the photoresist formed using three-dimensional optical interference lithography to form a three-dimensional porous photoresist pattern; coating the formed three-dimensional porous photoresist pattern with an inorganic material; heating the photoresist pattern on which the inorganic material is coated to carbonize the pattern; and removing the coated inorganic material.
Korean[ko]
광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법 및 이에 의한 다공성 탄소 구조체가 제공되며, 상기 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법은 기판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계; 상기 형성된 포토레지스트층에 3차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 3차원 광간섭 패턴을 조사함으로써 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 형성된 3차원 다공성 포토레지스트 패턴에 무기물을 코팅하는 단계; 상기 무기물이 코팅된 포토레지스트 패턴을 가열하여 탄화시키는 단계; 및 상기 코팅된 무기물을 제거하는 단계:를 포함한다.