Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to a composition for forming a hardmask, which comprises a solvent and a copolymer including a recurring unit represented by formulas 1 and 2, to a method for forming a pattern using same, and to a semiconductor integrated circuit device comprising the pattern formed by the method.
French[fr]
La présente invention concerne une composition pour la formation d'un masque dur, cette composition comprenant un solvant et un copolymère qui comprend une unité récurrente représentée par les formules 1 et 2, un procédé de formation d'un motif au moyen de cette composition et un dispositif à circuit intégré à semi-conducteur comprenant le motif formé selon le procédé.
Korean[ko]
화학식 1 및 2로 표시되는 반복단위를 포함하는 공중합체 및 용매를 포함하는 하드마스크 형성용 조성물, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 그리고 상기 방법으로 형성된 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스에 관한 것이다.