Metadata
Author: EurLex-2
Data
Danish[da]
"Programstyret" sputter-belægningsproduktionsudstyr, der kan operere med strømtætheder på mindst 0,1 mA/mm2 ved en belægningshastighed på mindst 15 μm/h.
Greek[el]
Εξοπλισμός παραγωγής με "έλεγχο μέσω αποθηκευμένου προγράμματος" για εναπόθεση με καθοδική διασκόρπιση, ικανός να επιτυγχάνει πυκνότητα ρεύματος 0,1 mA/mm2 ή υψηλότερη, με ταχύτητα εναπόθεσης 15 μικρόμετρα/ώρα ή υψηλότερη.
English[en]
"Stored programme controlled" sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Spanish[es]
Equipos de producción "controlados por programa almacenado" para el depósito por pulverización catódica capaces de producir densidades de corriente iguales o superiores a 0,1 mA/mm2 a una velocidad de depósito igual o superior a 15 micras/h;
Finnish[fi]
"Ohjelmallisesti ohjatut" sputterointituotantolaitteet, joiden virtatiheys voi olla 0,1 mA/mm2 tai suurempi, kun pinnoitusnopeus on 15 μm tunnissa tai suurempi;
Portuguese[pt]
Equipamentos de produção com "controlo por programa residente" para deposição por pulverização catódica, com capacidade para densidades de corrente iguais ou superiores a 0,1 mA/mm2, para velocidades de deposição iguais ou superiores a 15 μm/hora;