Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
An inductively coupled plasma source of the invention generally comprises a body constructed substantially of a conductive material interrupted by at least one dielectric gap.
French[fr]
Une source de plasma couplé de manière inductive comprend, en général, un corps sensiblement fabriqué dans un matériau conducteur interrompu par au moins un intervalle diélectrique.