Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
An etching mask pattern formed with the paste of the present invention demonstrates a high etch resistance during an etch-back process for the formation of a selective emitter such that an emitter can be stably formed.
French[fr]
Un motif de masque de gravure formé avec la pâte selon l'invention présente une résistance élevée à la gravure pendant un processus de gravure en retrait destiné à former un émetteur sélectif, ce qui permet d'obtenir un émetteur formé de façon stable.
Korean[ko]
본 발명의 페이스트로 형성된 식각 마스크 패턴은 선택적 에미터 형성을 위한 에치-백 공정에서 에칭에 견디는 성능이 우수하여 안정적인 에미터 형성을 가능하게 한다.