Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The purpose of the invention is to provide: a polishing pad that has minute bubbles that are substantially uniform in the thickness direction and is already provided with openings without performing an opening-forming process such as surface grinding; and a manufacturing method for same.
French[fr]
La présente invention concerne : un tampon de polissage qui présente des bulles minuscules sensiblement uniformes dans la direction de l'épaisseur et qui est déjà doté d'ouvertures sans la mise en œuvre d'un procédé de formation d'ouvertures, tel qu'un ponçage de surface ; et son procédé de fabrication.
Japanese[ja]
厚み方向に略均一な微細気泡を有し、且つ表面研削等の開口処理することなく既に開口部が設けられている研磨パッド、及びその製造方法を提供すること。 ポリウレタン樹脂及び有機溶媒を含む混合溶液を成膜基材に塗布する工程(1)、前記塗布工程の後に、ポリウレタン樹脂を温度10~80°C、相対湿度65~100%の雰囲気下に2分以上曝露する工程(2)、及びポリウレタン樹脂を凝固液に浸漬して凝固させる工程(3)、を含む、研磨パッドの製造方法。