Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
This method for producing said metal nitride material for thermistors comprises a film formation step for forming a film by performing reactive sputtering in a nitrogen-containing atmosphere by using a V-Al alloy sputtering target.
French[fr]
Ce procédé pour produire ledit matériau en nitrure métallique pour thermistances comprend une étape de formation de film consistant à former un film en effectuant une pulvérisation réactive dans une atmosphère contenant de l'azote, au moyen d'une cible de pulvérisation d'alliage de V-Al.
Japanese[ja]
このサーミスタ用金属窒化物材料の製造方法は、V-Al合金スパッタリングターゲットを用いて窒素含有雰囲気中で反応性スパッタを行って成膜する成膜工程を有している。