Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
It is preferable for a further step to be provided prior to the step for diffusing, i.e., a step for applying an n-type diffusion doping agent on the region of the silicon substrate on which the dielectric film was not formed.
French[fr]
Il est préférable de réaliser une étape supplémentaire avant l’étape de diffusion, c’est-à-dire, une étape pour appliquer un dopant à diffusion de type n sur la région du substrat de silicium sur laquelle la pellicule diélectrique n’a pas été formée.
Japanese[ja]
上記の拡散させる工程よりも前に、シリコン基板における誘電体膜が形成されていない領域にn型拡散ドーピング剤を塗布する工程を、さらに備えることが好ましい。