Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention provides an atomic layer deposition apparatus and a method, wherein the atomic layer deposition apparatus is small and has a high throughput.
French[fr]
La présente invention se rapporte à un appareil de dépôt de couches atomiques et à un procédé, l'appareil de dépôt de couches atomiques étant petit et présentant un rendement élevé.
Korean[ko]
본 발명에서 제공하는 원자층 증착 장비 크기가 작으면서도 쓰루풋이 높은 원자층 증착 장치 및 방법을 제공한다. 또한, 기체를 투과시키는 재질로 구성된 기판에 원자층을 증착할 수 있는 원자층 증착 장치 및 방법을 제공한다.