Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
[Problem] To have uniformity of refractive index distribution of a nitride film and/or uniformity of deposition speed distribution of the nitride film within a predetermined numerical value range, and to improve controllability of stress generated due to the nitride film.
French[fr]
La présente invention vise à avoir une uniformité de la distribution d'indices de réfraction d'un film de nitrure et/ou une uniformité de distribution de vitesses de dépôt du film de nitrure dans une plage de valeur numérique prédéterminée, et à améliorer l'aptitude à la commande de la contrainte générée en raison du film de nitrure.
Japanese[ja]
【課題】窒化膜の屈折率及び/又は堆積速度の分布の均一性を所定の数値範囲内に収めるとともに、窒化膜の応力の制御性を高める。 【解決手段】本発明の1つの窒化膜の製造装置100は、チャンバー30内に配置された基板20上にプラズマCVD法によって窒化膜70(70a)を形成する窒化膜の製造装置100である。