Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Provided are: a method for producing a near infrared cutoff filter with which it is possible to uniformly form a film on a substrate; and a solid-state imaging element.
French[fr]
La présente invention concerne un procédé de production d'un filtre de coupure infrarouge proche avec lequel il est possible de former uniformément un film sur un substrat ; et un élément d'imagerie à semi-conducteurs.
Japanese[ja]
基材上に均一な膜を形成することができる近赤外線カットフィルタの製造方法および固体撮像素子を提供する。 基材上に親水性領域および/または疎水性領域を形成する工程、および、親水性領域の表面に、および/または、疎水性領域で囲まれた領域内に、近赤外線吸収物質を含む近赤外線吸収性組成物を適用する工程、を有する近赤外線カットフィルタの製造方法。