Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to a gas feeding system, and more particularly, to a gas feeding system for chemical vapor deposition (CVD) reactor capable of improving the uniformity and quality of deposited film in the manufacture of semiconductor devices.
French[fr]
L'invention porte sur un système d'alimentation en gaz, et en particulier sur un système d'alimentation en gaz pour réacteur de chimio-déposition de vapeurs (CVD) améliorant l'uniformité et la qualité du film déposé lors de la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs.