Teken aan
Besonderhede van voorbeeld: 9214601686863942069
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Metadata
Author:
patents-wipo
Data
English
[en]
A thermal oxide step (S2) anneals silicon exposed and damaged by this etch.
French
[fr]
Une étape (S2) d'oxyde thermique recuit le silicium exposé et abîmé par cette gravure.
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