X-ray lithography oor Spaans

X-ray lithography

Vertalings in die woordeboek Engels - Spaans

litografía con rayos X

litografía de rayos X

litografía por rayos X

voorbeelde

LIGA combines X-ray lithography and electroforming to produce threedimensional structures.
LIGA combina la litografía de rayos X y el electroformado para producir estructuras tridimensionales.

X-ray lithography has been under development since around 1972.
La litografía con rayos X ha estado desarrollándose desde 1972.

Related processes include multilayer X-ray lithography and HEXSIL.
Los procesos relacionados con éste incluyen la litografía de rayos X de multicapas y HEXSIL.

“Then there were breakthroughs in...X-ray lithography, I think he called it.”
—Luego se hicieron avances en... la litografía de los rayos X, me parece que lo llamó.

Various techniques of nanolithography such as optical lithography, X-ray lithography, dip pen nanolithography, electron beam lithography or nanoimprint lithography were also developed.
Varias técnicas de nanolitografía tales como la litografía óptica, la nanolitografía dip-pen de litografía de rayos X, la litografía de haz de electrones o litografía de nanoimpresión también fueron desarrolladas.

Most X-ray lithography demonstrations have been performed by copying with image fidelity (without magnification) on the line of fuzzy contrast as illustrated in the figure.
Se han realizado muchas demostraciones de litografía de rayos X, con fidelidad, copiando imágenes sin magnificación, sobre la línea de contraste difuso como se ilustra en la figura.

X-rays are difficult to focus during lithography.
Los rayos X son difíciles de enfocar durante la litografía.

Additionally, their ability to generate and directly modulate electron beams makes them ideal candidates for low voltage field emitters used in parallel electron beam lithography and X-rays generation.
Además, su capacidad para generar y modular directamente haces de electrones los convierte en candidatos ideales para ser utilizados en los emisores de campo de bajo voltaje que se emplean en la litografía de haces de electrones en paralelo y la generación de raxos X.

The laser installations are fully operational and available to European researchers who are involved in various research activities such as plasma and ionisation dynamics, nuclear physics and astrophysics, X-ray diffraction studies of solids and molecules, and in industrial processes, such as development of soft X-ray sources and particularly lithography.
Las instalaciones de láser ya están totalmente operativas y a disposición de los investigadores europeos que participen en actividades de investigación de la dinámica de ionización y plasma, física nuclear y astrofísica, estudios de difracción por rayos X de sólidos y moléculas, por ejemplo, y en procesos industriales como el desarrollo de fuentes de rayos X blandos y particularmente la litografía.

X-rays generate secondary electrons as in the cases of extreme ultraviolet lithography and electron beam lithography.
Los rayos X generan electrones secundarios como en los casos de la litografía de ultravioleta extremo y la litografía de electrones radiados.

Producing high aspect ratio resist structures by deep X-ray lithography:
Elaboración de estructuras con alta relación de aspecto mediante litografía profunda de rayos X:

16). The resist layer is structured by X-ray lithography via the intermediate mask (fig.
La capa de fotoresina es estructurada mediante litografía de rayos X a través de la máscara intermedia (imagen 17).

Parallel X-ray lithography can pattern a large area, but it is too expensive for most applications.
La litografía Paralela de la Radiografía puede modelar una área extensa, pero es demasiado costosa para la mayoría de las aplicaciones.

Making high aspect ratio resist structures by deep X-ray lithography:
Elaboración de la fotoresina de alta relación de aspecto mediante litografía profunda de rayos X:

Copying the working mask to 100 μm to 3000 μm high micro structures by deep X-ray lithography.
Copia de la máscara de trabajo en microestructuras de 100 μm a 3000 μm de espesor mediante litografía profunda de rayos X.

17: X-ray lithography through the IM
Imagen 17: litografía de rayos X a través de la MI

Fig. 22: X-ray lithography from WM
Imagen 22: litografía profunda de rayos X a través de la MT

Copying the intermediate mask into a working mask (WM) with about 25 μm high gold absorber structures by X-ray lithography.
Copia de la máscara intermedia a una máscara de trabajo (MT) con estructuras de absorción de oro de aprox. 25 μm de espesor, mediante litografía profunda de rayos X.

Various techniques of nanolithography such as optical lithography, X-ray lithography dip pen nanolithography, electron beam lithography or nanoimprint lithography were also developed.
Varias técnicas de nanolitografía tales como la litografía óptica, la nanolitografía dip-pen de litografía de rayos X, la litografía de haz de electrones o litografía de nanoimpresión también fueron desarrolladas.

In the deep X-ray lithography step a shadow projection of the working mask into a quite thick PMMA resist layer (100 μm to 3 mm) is performed (fig. 22, 23).
En la etapa de la litografía profunda de rayos X se logra una proyección de sombras de la máscara de trabajo sobre una capa de PMMA- fotoresina relativamente gruesa (100 μm a 3 mm) (imágenes 22 y 23).

His thesis subject consists on the characterization of local electrical properties of thin films of mesoporous oxides obtained by Deep X-Ray Lithography under the supervision of Dr. María Cecilia Fuertes and Dr. Leticia Granja.
El trabajo de tesis consiste en la caracterización de las propiedades eléctricas locales en microestructuras obtenidas por Deep X-Ray Lithography a partir de films delgados de óxidos mesoporosos con la dirección de la Dr. María Cecilia Fuertes y la Dr. Leticia Granja.

The required absorption gratings are often produced by deep X-ray lithography and subsequent galvanic deposition of gold, for example at the Karlsruhe Institute of Technology, Institute of Microstructure Technology (KIT/IMT), see Figure 6.
Las rejillas de absorción necesarias se fabrican a menudo mediante litografía de rayos X profundos y posterior deposición galvánica de oro, por ejemplo en el Instituto de Tecnología de Karlsruhe, Instituto de Tecnología de Microestructuras (KIT/IMT), véase la Imagen 6.

The work includes bottom-up chemical synthesis of nanoporous films, their top-down structuring by deep X-ray lithography and the demonstration of their function with a fluid chamber attached to an atomic force microscope.
El trabajo incluye síntesis química bottom-up de películas nanoporosas, su estructuración top-down por medio de litografía de rayos X profundos y la demostración de su funcionamiento con una cámara de fluidos conectada a un microscopio de fuerza atómica.

With the constant diminution in the semiconductor structure size, it is widely believed that, within 10 to11 years, the wavelength of the light required in the lithography process will go past the ultra-violet spectrum into the EUV or soft x-ray zone.
Debido a la constante disminución en el tamaño de la estructura de los semiconductores, por lo general se piensa que, en el plazo de 10 u 11 años, la longitud de onda de la luz que requiere el proceso de litografía irá más allá del espectro ultravioleta hasta llegar al EUV o a la zona de rayos X blandos.

Considerable effort has been made when optimizing sub-micrometric lithographic technologies using more energetic sources like extreme ultraviolet lithography, electron lithography, with ion sources or X-ray sources.
Se han realizado importantes esfuerzos a la hora de optimizar las tecnologías litográficas sub-micrométricas, utilizándose fuentes más energéticas como la litografía ultravioleta extrema, la litografía con electrones, con fuentes de iones o con fuentes de rayos X.