écarts d'exposition oor Japannees

écarts d'exposition

Vertalings in die woordeboek Frans - Japannees

ブラケット露光

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Geskatte vertalings

Vertoon algoritmies gegenereerde vertalings

voorbeelde

wedstryd
woorde
Advanced filtering
La présente invention a pour objet d'empêcher l'apparition d'un écart important de chronologie d'exposition même si des données d'image sont lues de manière diluée lorsqu'un amplificateur est partagé entre une pluralité de pixels.
複数の画素でアンプを共有する場合に間引いて画像データを読み出した場合でも露光タイミングに大きな差が生じるのを防ぐ。patents-wipo patents-wipo
Cet écartement permet à des lettres d’ARN de venir s’apparier avec les lettres ainsi exposées de l’un des deux brins d’ADN.
これによってDNAの文字がむき出しになり,RNAのための文字がDNAの一方のロープ上の文字と結び付くようになります。jw2019 jw2019
Le second moyen d'enregistrement enregistre, à son tour, la dose d'exposition et la région exposée au cours de la seconde étape d'exposition sur l'image 3D du corps humain après correction de l'écart de position.
前記第2記録手段は、前記位置ずれを補正した前記人体三次元画像上に、前記第2の放射線照射工程における被曝線量及び被曝領域を更に記録する。patents-wipo patents-wipo
L'invention porte sur un sous-vêtement pour hommes, lequel sous-vêtement a non seulement un confort de port amélioré, mais peut également maintenir le pénis de la personne écarté de l'abdomen et du scrotum, et permet à la personne d'exposer le pénis et de maintenir la posture de miction par la simple manipulation du sous-vêtement.
使用感を向上させることができるだけでなく、陰茎を、下腹部や陰嚢から離間さて保持することができ、しかも、下着を操作するだけで陰茎を露出させ、排尿姿勢をとらせることができる。patents-wipo patents-wipo
Une opération d'appariement en deux étapes est réalisée entre des informations combinées, dans laquelle des premières informations de motif sont combinées avec des informations de conception pour un second motif formé par la seconde exposition d'une double formation de motif, et des images affichées des premier et second motifs, ce qui permet ainsi au procédé et au dispositif d'obtenir une quantité d'écart entre les premier et second motifs conformément à une quantité de mouvement des informations de conception de second motif.
上記目的を達成するために、第1パターンに関する情報と、ダブルパターニングの第2の露光によって形成される第2パターンの設計情報とを結合した結合情報と、第1パターンと第2パターンが表示された画像との間で、2段階のマッチングを行い、第2のパターンの設計情報の移動量に基づいて、第1パターンと第2パターンと間のずれ量を求める方法、及び装置を提供する。patents-wipo patents-wipo
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