4の硝酸ビスマス溶液を作製し、この溶液に吸着材を添加してポロニウムを吸着させ、これをろ過して吸着材とろ液に分離し、次にこのろ液を電解採取してビスマスを回収することを特徴とする低α線ビスマスの製造方法。 最近の半導体装置は、高密度化及び高容量化されているので、半導体チップ近傍の材料からのα線の影響により、ソフトエラーが発生する危険が多くなってきている。
En particulier, il est fortement souhaité que les matériaux de soudage à utiliser à grande proximité des dispositifs semi-conducteurs présentent une pureté plus élevée et des matériaux à rayons α réduits sont également souhaités.patents-wipo patents-wipo