atomic layer deposition oor Fins

atomic layer deposition

Vertalings in die woordeboek Engels - Fins

ALD-reaktori

voorbeelde

Apparatus and instruments for thin film deposition, including atomic layer deposition
Laitteet ja välineet ohutkalvojen, mukaan lukien atomikerrosten kerrostamiseen

Semiconductor wafer processing components, namely, epitaxial reactors, rapid thermal processing systems, atomic layer deposition reactors, chemical vapor deposition reactors, physical vapor deposition reactors, plasma etchers, ion implanters, chemical mechanical polishers
Puolijohdelevyjen käsittelykomponentit, Nimittäin, Epitaksiaaliset reaktorit, Nopeat lämpökäsittelyjärjestelmät, atomikerroksen päällystysreaktorit, Kemialliset höyrypäällystysreaktorit, Fyysiset höyrypäällystysreaktorit, Plasmakaiverruslaitteet, Ioni-istuttimet, Kemialliset mekaaniset kiillottimet

Semiconductor wafer processing equipment such as epitaxial reactors, rapid thermal processing systems, atomic layer deposition reactors, chemical vapor deposition reactors, physical vapor deposition reactors, plasma etchers, ion implanters, chemical mechanical polishers
Puolijohdelevyjen käsittelylaitteet, kuten epitaksiaaliset reaktorit, nopeat lämpökäsittelyjärjestelmät, atomikerroksen päällystysreaktorit, kemialliset höyrynsaostusreaktorit, fysikaaliset höyrynsaostusreaktorit, plasmasyövyttimet, ioni-istuttimet ja kemiallis-mekaaniset kiillottimet

Machinery and parts thereof for coating articles by means of physical vapour deposition, chemical vapour deposition including atomic layer deposition or a combination of physical vapour deposition and chemical vapour deposition
Koneet ja niiden osat tavaroiden päällystämiseen fysikaalisen höyrypäällystämisen, kemiallisen höyrypäällystämisen, mukaan lukien atomikerrospäällystämisen tai fysikaalisen höyrypäällystämisen ja kemiallisen höyrypäällystämisen yhdistelmän avulla

Treatment and coating of materials by atomic scale layer deposition method and consulting connected thereto
Aineiden ja esineiden käsittely ja pinnoittaminen atomitason kerroskasvatusmenetelmällä sekä niihin liittyvä konsultointi

Computers and computer programmes for atomic scale layer deposition apparatus
Tietokoneet ja tietokoneohjelmat atomitason kerroskasvatuslaitteisiin

Atomic scale layer deposition apparatus
Atomitason kerroskasvatuslaitteet

Machines and machine tools for atomic scale layer deposition
Koneet ja työstökoneet atomitason kerroskasvatukseen

Atomic deposition layering machines
Atomikerroskasvatuskoneet

Professor Maarit Karppinen’s research group is developing better battery materials by means of atomic layer deposition.
Professori Maarit Karppisen tutkimusryhmä kehittää autojätille parempia akkumateriaaleja atomikerroskasvatuksen avulla.

Atomic Layer Deposition (ALD) is the most widely studied deposition method.
Laajimmin tutkittu kerrostusmenetelmä on atomikerroskasvatus (ALD).

The results indicate that atomic layer deposition is a promising method for developing microchip photonic processes.
Tulosten perusteella atomikerroskasvatusmenetelmä osoittautui erittäin lupaavaksi mikrosirussa tapahtuvien prosessien kehittämiseen.

Atomic layer deposited alumina on black silicon: passivation, electrical properties and application to high-efficiency solar cells
Atomikerroskasvatetulla alumiinioksidilla passivoitu musta pii: sähköiset ominaisuudet ja soveltaminen tehokkaihin aurinkokennoihin

Atomic layer deposition (ALD) has emerged as viable candidate for growth of ultrathin films.
Atomikerroskasvatusmenetelmästä (Atomic layer deposition, ALD) on tullut varteenotettava kandidaatti erittäin ohuiden ohutkalvojen kasvatukseen.

Abstract: This thesis focuses on atomic layer deposition (ALD) and presents results divided between two parts.
Pyymäki Perros, Tässä väitöskirjassa käsiteltiin atomikerroskasvatusta (engl. ALD) ja sen tulokset esitetään jaettuna kahteen osaan.

Atomic Layer Deposition (ALD) is one of the most significant and widely utilised Finnish technology inventions.
Atomikerroskasvatus eli ALD (Atomic Layer Deposition) on yksi merkittävimmistä ja laajimmin hyödynnetyistä suomalaisista teknologiakeksinnöistä.

Atomic layer deposition of thermoelectric oxide materials on textiles
Termosähköisten oksidimateriaalien atomikerroskasvatus tekstiileille

Polymer surface modification by atomic layer deposition 23KB2303LR11 - LUT University: LUTShop
Muuttuvaan kysyntään sopeutuva varastonohjausmalli 23KB2303LR11 - LUT University: LUTShop

The researchers made their breakthrough with the help of a Finnish invention: the atomic layer deposition method.
Tutkijat onnistuivat läpimurrossaan käyttämällä suomalaista keksintöä: atomikerroskasvatusmenetelmää.

The researchers made their breakthrough using the Finnish invention, the atomic layer deposition method.
Tutkijat onnistuivat läpimurrossaan käyttämällä suomalaista keksintöä: atomikerroskasvatusmenetelmää.

High-k ternary rare earth oxides by atomic layer deposition
Polymeeri-klorofylliohutkalvojen passivointi atomikerroskasvatuksen avulla

Atomic Layer Deposition (ALD)
Atomikerroskasvatus (ALD)

One solution is to use precise deposition techniques such as atomic layer deposition (ALD).
Eräs vaihtoehto on käyttää kalvojen kasvatusmenetelmiä kuten atomikerroskasvatusta (ALD).

Share The atomic layer deposition (ALD) technique developed by Tuomo Suntola revolutionised information technology in the 2000s.
Tuomo Suntolan kehittämä atomikerroskasvatusteknologia eli ALD mullisti tietotekniikan 2000-luvulla.

In addition, the literature review will focus on applying atomic layer deposition (ALD) on textiles.
Lisäksi kirjallisuusosassa keskitytään atomikerroskasvatustekniikan (ALD) soveltamiseen tekstiileille.