Le mécanisme de mouvement fixe le taux de mouvement du premier élément de support et le taux de mouvement du deuxième élément de support de telle sorte que l'élément de support pour le plan d'image sur lequel le schéma est projeté ou la surface de substrat exposée, spécifiquement, celui qui est plat ou a le plus grand rayon de courbure, se déplace à une vitesse inférieure à celle de l'autre élément de support.
所定曲率で円筒面状に湾曲した第1面に沿うように、マスクと基板とのうちの一方を支持する第1支持部材と、所定の第2面に沿うようにマスクと基板とのうちの他方を支持する第2支持部材と、第1支持部材を回転させ、かつ、第2支持部材を移動させ、マスクと基板とを走査露光方向に移動させる移動機構と、を備え、投影光学系は、投影領域の走査露光方向の中心に垂直な線に略平行な主光線を含む投影光束によってパターンの像を所定の投影像面に形成し、移動機構は、第1支持部材の移動速度及び第2支持部材の移動速度を設定し、パターンの投影像面と基板の露光面とのうち曲率がより大きい面又は平面となる側の移動速度を他方の移動速度よりも相対的に小さくする。patents-wipo patents-wipo