Lors d'un dépôt à l'aide d'un système de CVD par plasma couplé de manière capacitive, une commande d'impulsion d'une source d'énergie RF basse fréquence limite une densité d'électrons à haute température de façon périodique, avant une génération d'une décharge en arc, supprimant ainsi une génération de décharge en arc.
In deposition using a capacitively-coupled plasma CVD system, pulse control of a low-frequency RF power source restrains a density of high-temperature electrons periodically prior to generation of arc discharge, thereby suppressing generation of arc discharge.patents-wipo patents-wipo