resistiivinen oor Engels

resistiivinen

Vertalings in die woordeboek Fins - Engels

resistive

adjektief

Ioniavusteinen resistiivinen kuumennus PVD (ionipinnoitus)
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)

voorbeelde

Ioniavusteinen resistiivinen fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD) (ionipinnoitus)
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)

Ioniavusteinen resistiivinen-kuumennus-PVD -prosessissa käytetään resistiivisiä kuumennuslähteitä yhdessä iskeytyvän(-vien) ionisäte(id)en kanssa tuottamaan kontrolloidun ja yhtenäisen höyrystyneiden pinnoiteaineksien vuon.
Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;

3A229.b.5 kohdassa ’nousuaika’ on aikaväli, jonka kuluessa virran amplitudi kasvaa 10 prosentista 90 prosenttiin, kun kuorma on resistiivinen.
In 3A229.b.5. ‘rise time’ is defined as the time interval from 10 % to 90 % current amplitude when driving a resistive load.

I.3A.008.b.5. kohdassa ”nousuaika” on aikaväli, jonka kuluessa virran amplitudi kasvaa 10 prosentista 90 prosenttiin, kun kuorma on resistiivinen.
In I.3A.008.b.5. ‘rise time’ is defined as the time interval from 10 % to 90 % current amplitude when driving a resistive load

2. Ioniavusteinen resistiivinen-kuumennus-PVD-prosessissa käytetään resistiivisiä kuumennuslähteitä yhdessä iskeytyvän(-vien) ionisäte(id)en kanssa tuottamaan kontrolloidun ja yhtenäisen höyrystyneiden pinnoiteaineksien vuon.
2. ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;

Nokia N900:ssa on 3.5 tuuman (89 millimetrin) resistiivinen kosketusnäyttö, jonka resoluutio on 800 × 480 pikseliä (WVGA, 267 pikseliä tuumaa kohden).
The Nokia N900 has a 3.5-inch (89 mm) resistive touchscreen with a resolution of 800 × 480 pixel (WVGA, 267 ppi).

Ioniavusteinen resistiivinen kuumennus PVD (ioni pinnoitus)
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)

3A229.b.5 kohdassa ”nousuaika” on aikaväli, jonka kuluessa virran amplitudi kasvaa 10 prosentista 90 prosenttiin, kun kuorma on resistiivinen.
In 3A229.b.5. «rise time» is defined as the time interval from 10 % to 90 % current amplitude when driving a resistive load.

Ioniavusteinen resistiivinen-kuumennus-PVD-prosessissa käytetään resistiivisiä kuumennuslähteitä yhdessä iskeytyvän(-vien) ionisäte(id)en kanssa tuottamaan kontrolloidun ja yhtenäisen höyrystyneiden pinnoiteaineksien vuon.
Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;

3A229.b.5 kohdassa ”nousuaika” on aikaväli, jonka kuluessa virran amplitudi kasvaa 10 prosentista 90 prosenttiin, kun kuorma on resistiivinen.
In 3A229.b.5. ‘rise time’ is defined as the time interval from 10 % to 90 % current amplitude when driving a resistive load.

3A229.b.5 kohdassa ’nousuaika’ on aikaväli, jonka kuluessa virran amplitudi kasvaa 10 prosentista 90 prosenttiin, kun kuorma on resistiivinen.
In 3A229.b.5. "rise time" is defined as the time interval from 10 % to 90 % current amplitude when driving a resistive load.

Toiminta ja vahvistinasteiden kytkentätavat; resistiivinen, kapasitiivinen, induktiivinen (muuntaja), induktiivis-resistiivinen (IR), suora;
Operation and amplifier stages connecting methods: resistive capacitive, inductive (transformer), inductive resistive (IR), direct;

3A229.b.5 kohdassa ‧nousuaika‧ on aikaväli, jonka kuluessa virran amplitudi kasvaa 10 prosentista 90 prosenttiin, kun kuorma on resistiivinen.
In 3A229.b.5. ‧rise time‧ is defined as the time interval from 10 % to 90 % current amplitude when driving a resistive load.

3A229.b.5 kohdassa ”nousuaika” on aikaväli, jonka kuluessa virran amplitudi kasvaa 10 prosentista 90 prosenttiin, kun kuorma on resistiivinen.
In 3A229.b.5. ’rise time’ is defined as the time interval from 10 % to 90 % current amplitude when driving a resistive load.