リンスする oor Frans

リンスする

Vertalings in die woordeboek Japannees - Frans

laver

werkwoord

rincer

werkwoord

洗浄液により洗浄したシリコンウェハを、炭酸水によりリンスする。
Une tranche de silicium qui a été nettoyée avec un liquide de nettoyage est rincée avec de l'eau chargée de gaz carbonique.

Soortgelyke frases

イヴァン・リンス
Ivan Lins

リンス
après-shampoing · après-shampooing · rincer

voorbeelde

本発明のシリコンウェーハ用研磨用組成物およびシリコンウェーハ用リンス用組成物は、ポリオキシエチレン付加物からなるノニオン性界面活性剤を含む。
Cette invention concerne une composition de polissage de tranches de silicium et une composition de rinçage de tranches de silicium, contenant un tensioactif anionique formé d'un adduit de polyoxyéthylène.

リンス工程は、遷移金属オキソ酸塩を含む処理液を用いて鋼材の表面のリンス処理を行う。 洗浄工程は、リンス工程後の鋼材の表面を洗浄処理する。
Lors de l'étape de nettoyage, un traitement de nettoyage est effectué sur la surface du matériau d'acier suite à l'étape de rinçage.

ガラス基板の加工方法及びガラス基板加工用リンス剤組成物
procédé de traitement d'une base de verre et composition de rinçage pour traitement de base de verre

研磨用組成物およびリンス用組成物
Composition de polissage et composition de rinçage

リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法
Liquide de rinçage pour la lithographie et procédé de formation de motif utilisant ce liquide

かかるシリコンウェハ清浄化方法によれば、リンス処理によって静電気が発生して静電破壊が発生したり、洗浄したシリコンウェハ表面に静電気によってゴミが付着したりすることがなく、シリコンウェハのリンス処理時における金属不純物の付着を防止することができるとともに、コストにも配慮しつつ、更には、残渣が生じる懸念のないクリーンなリンス液を用いたリンス処理を行うことができる。
Ce procédé de nettoyage d'une tranche de silicium est apte à réaliser un traitement de rinçage qui utilise un liquide de rinçage propre, qui ne présente pas de risque de générer des résidus, tout en donnant une considération suffisante au coût.

リソグラフィー用リンス液
Solution de rinçage pour lithographie

インキ着肉性に優れたレリーフ印刷版を得ることができ、レーザー彫刻後のリンス性に優れるレーザー彫刻用組成物を提供することを目的とする。
La présente invention vise à fournir une composition pour une gravure au laser apte à obtenir une plaque d'impression en relief ayant d'excellentes propriétés d'adhérence d'encre et ayant d'excellentes propriétés de rinçage après une gravure au laser.

本発明の色素吸着装置において、色素溶液滴下塗布部(12)は、この色素吸着装置(10)に搬入された未処理の基板(G)に対して、基板(G)上の多孔質半導体層に色素溶液を滴下塗布する第1の処理(色素溶液滴下塗布処理)を行い、溶媒蒸発除去部(14)は、基板(G)上の半導体層に塗布された色素溶液から溶媒を蒸発させて除去する第2の処理(溶媒除去処理)を行い、リンス部(16)は、基板(G)上の半導体層の表面に付いている不要または余分な色素を洗い落として除去する第3の処理(リンス処理)を行う。
Une unité d'évaporation/élimination de solvant (14) effectue un deuxième processus (processus d'élimination de solvant) dans lequel un solvant est évaporé et éliminé de la solution de colorant déposée sur la couche semi-conductrice sur le substrat (G).

リンス処理方法および現像処理方法
Procede de traitement par rincage et procede de developpement

1~10質量% (4)水 を含有する毛髪化粧料を提供する。 この毛髪化粧料は、洗髪後の毛髪の仕上がりのなめらかさ、しなやかさ及びしっとり感に優れており、リンスやコンディショナー等の毛髪処理剤としての使用に適している。
Le soin cosmétique capillaire fournit une finition aux cheveux après lavage qui confère d'excellentes caractéristiques de douceur, de souplesse et de sentiment d'hydratation, et est donc adapté à une utilisation en tant qu'agent de traitement capillaire, sous forme d'agent de rinçage ou d'après-shampoing.

で も リンス は 行 っ て な い
But Lynnes, il ne voudra pas y aller.

リングラフィー(石版印刷)という語はギリシア語から来ており ―『石』を意味するリンスと『書く』を意味するグラフェイン ― したがって文字どおりには「石の上に書く」ことを意味します。
Le mot lithographie est formé de deux termes grecs, lithos, ‘pierre’, et graphein, ‘écrire’ ; il signifie donc littéralement ‘écrire sur la pierre’.

この方法は、タンクに貯留された砥粒を含む研磨液を循環供給しながら研磨を行う通常研磨工程と、砥粒を含む研磨液の循環供給を停止し、砥粒を含まないリンス液を供給しながら前記研磨パッドとガラス板を相対移動させるリンス工程と、を含み、前記リンス工程に使用したリンス液のすくなくとも一部を、前記砥粒を含む研磨液の前記タンクへ供給する。
Au moins une partie du liquide de rinçage utilisé dans le traitement de rinçage est acheminée au réservoir prévu pour le liquide de polissage contenant des grains abrasifs.

本発明の課題は、基板表面を腐食することなく微粒子付着による汚染、有機物汚染及び金属汚染を同時に除去することができ、しかも水リンス性も良好で、短時間で基板表面を高清浄化することができる半導体デバイス用基板洗浄液を提供することにある。
La présente invention a pour but de fournir une solution de lavage pour un substrat pour un dispositif à semi-conducteur, qui peut éliminer la contamination provenant de la fixation de fines particules, la contamination par des matières organiques et la contamination par des métaux simultanément sans provoquer la corrosion de la surface du substrat, peut être rincée avec de l'eau de façon satisfaisante, et peut très bien nettoyer la surface du substrat en un court laps de temps.

この発明は、複数の支柱と当該複数の支柱の間に埋設された犠牲膜とが形成された基板の表面から前記犠牲膜を除去する犠牲膜除去方法であって、前記基板の表面にエッチング液を供給することにより、前記犠牲膜を途中深さまで除去するウェットエッチング工程と、前記ウェットエッチング工程の後に前記基板の表面にリンス液を供給することにより、前記基板の表面に付着している残留物を洗い流すリンス工程と、前記リンス工程の後に、前記基板の表面の液成分を除去する乾燥工程と、前記乾燥工程の後に前記基板の表面にエッチングガスを供給することにより、前記基板の表面に残存している犠牲膜を除去するドライエッチング工程と、を含む。
La présente invention concerne un procédé d'élimination de film sacrificiel pour éliminer un film sacrificiel de la surface d'un substrat sur lequel une pluralité de colonnes de support sont formées, le film sacrificiel étant incorporé entre lesdites colonnes de support.

リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法
Liquide de rinçage pour la lithographie et procédé pour former un modèle utilisant celui-ci

レジストパターン形成方法及び複合リンス液
Procede de formation de motif de résist et agent de rinçage composite

研磨用組成物中およびリンス用組成物中のポリオキシエチレン付加物の含有量は0. 00001~0.
La teneur de la composition de polissage et de la composition de rinçage en adduit de polyoxyéthylène va de 0,00001 à 0,1% en masse.

リソグラフィー用リンス液
Fluide de rincage pour lithographie

食器洗浄装置は洗浄工程と複数回のすすぎを行うすすぎ工程とを有し、洗浄槽と、給水部と、洗浄ポンプと、洗浄ノズルと、洗浄水または清浄水の水粒子を発生させる水粒子発生装置とを備え、洗浄工程とすすぎ工程とのどちらかの工程においてリンス剤が洗浄槽内に供給されるとともに、リンス剤の供給以降の最終回のすすぎにおいて、被洗浄物に水粒子を付着させる水粒子すすぎが行われる。
Un agent de rinçage est fourni au récipient de lavage soit au cours de l'étape de lavage soit au cours de l'étape de rinçage, et au cours du rinçage de la dernière tournée effectuée après que l'agent de rinçage ait été fourni, un rinçage à particules d'eau permettant de faire adhérer les particules d'eau à un objet en cours de lavage est effectué.

洗浄液により洗浄したシリコンウェハを、炭酸水によりリンスする。
Une tranche de silicium qui a été nettoyée avec un liquide de nettoyage est rincée avec de l'eau chargée de gaz carbonique.

現像処理後のレジスト基板を、このレジスト基板処理液に接触させ、水などのリンス液による洗浄することによって、基板表面のレジスト残渣を効率的に除去することができる。
L'eau est de préférence utilisée comme solvant et un polymère soluble dans l'eau est de préférence utilisé comme polymère.

リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法
Liquide de rinçage de lithographie et procédé de formation de motif l'utilisant

半導体装置の製造方法およびリンス液
Procédé de fabrication d'un dispositif semi-conducteur et solution de rinçage