111)方位の単結晶シリコン下地基板の上に、基板面に対し(0001)結晶面が略平行となるようにIII族窒化物層群を形成してなるエピタキシャル基板を、AlNからなる第1組成層とAlxGa1-xNからなる第2組成層とを交互に積層してなる組成変調層とAlyGa1-yN(0≦y<1)からなる第1中間層とを含む第1の積層単位を複数備えるバッファ層を備え、第1および第2組成層の積層数をそれぞれnとし、下地基板の側からi番目の第2組成層におけるxの値をx(i)とするときに、x(1)≧x(2)≧・・・≧x(n-1)≧x(n)かつ、x(1)>x(n)であるように形成し、第2組成層が第1組成層に対してコヒーレントな状態にあり、第1中間層が組成変調層に対してコヒーレントな状態にあるようにする。
Le substrat épitaxial comporte une couche tampon qui comprend une pluralité de premières unités de superposition, comprenant chacune une couche de modulation de la composition, des couches d'une première composition formées d'AlN et des couches d'une deuxième composition formées d'AlxGa1-xN étant superposées de façon alternée, ainsi qu'une première couche intermédiaire formée d'AlyGa1-yN (avec 0 ≤ y x(n) sont satisfaites.patents-wipo patents-wipo