본 발명은 복수의 기판이 장착된 위치에 따라 온도 편차를 가지는 것을 방지할 수 있도록 하고, 기판의 영역별 프로세스 가스 농도 변화를 보정할 수 있도록 함으로써 기판의 전체에 대한 증착 특성의 변화를 최소화하도록 하며, 복수의 기판을 정해진 온도까지 승온시키는데 소요되는 시간을 줄여서 생산성을 향상시키고, 기판이 경사지게 놓이도록 하여 진동이나 흔들림 등에도 불구하고 안정적인 배치를 유지하기 위하여, 챔버; 상기 챔버 내에 프로세스 가스를 분사하도록 설치되는 샤워헤드; 상기 챔버 내에 복수개가 나란하도록 수직되게 설치되는 플레이트 히터; 및 상기 플레이트 히터마다 한 쌍의 기판이 일정 각도로 기울어지게 설치되도록 상기 기판을 지지하는 복수의 기판지지부를 포함하는 수직형 플레이트 히터를 이용한 복수 기판 증착 장치가 제공된다.
According to the present invention, temperature deviations, depending on the positions where the plurality of substrates are mounted, can be prevented, and changes in deposition characteristics with respect to all of the substrates can be minimized because changes in process gas concentrations can be compensated in each area of the substrate.patents-wipo patents-wipo