下記一般式(I): 〔式中、R1 はアリール基;R2、R4、R5、及びR7 はC1-6 アルキル基;R3 及びR6は水素原子、C1-6 アルキル基など;R8 及びR9 はフッ素原子又は下記一般式(a):[式中、R10 はカルボキシ基、ホスホノ基、又はアミノ基を有する化合物の残基(ただし、該カルボキシ基、ホスホノ基、又はアミノ基から1 個の水素原子を除去した残基である);R11 は水素原子又はベンゼン環上に存在する置換基] で表される基を示し、ただしR8及びR9が同時にフッ素原子であることはない〕で表される光分解性保護基を有するケージド化合物又はその塩。
L'invention porte sur un composé d'inclusion ayant un groupe protecteur contre la photo dégradation, représenté par la formule générale (I) ou un sel de celui-ci (I), où R1 représente un groupe aryle; R2, R4, R5 et R7 représentent indépendamment un groupe alkyle en C1-6; R3 et R6 représentent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle en C1-6 ou autre; et R8 et R9 représentent indépendamment un atome de fluor ou un groupe représenté par la formule générale (a), à la condition que R8 et R9 ne représentent pas tous les deux un atome de fluor. (a), où R10 représente un résidu d'un composé ayant un groupe carboxy, un groupe phosphono ou un groupe amino (à la condition que le résidu soit obtenu par l'élimination d'un atome d'hydrogène du groupe carboxyle, du groupe phosphono ou du groupe amino dans le composé); et R11 représente un atome d'hydrogène ou un substituant se présentant sur un noyau benzénique.patents-wipo patents-wipo